La Corporation russe de nanotechnologies Rosnano va s'associer à la société Nitol pour créer le premier gros complexe russe de production de silicium [1] poly cristallin et de monosilane [2], qui constituent le matériau de base pour le développement de l'énergie solaire, la microélectronique et d'autres secteurs industriels de haute technologie. Les participants sont persuadés que ce nouveau complexe saura créer la base de matières premières qui permettra à la microélectronique russe de se développer, et constituera un élément essentiel à la formation d'un nouveau secteur de l'industrie russe : l'industrie solaire.
Cette usine sera créée sur le site de deux entreprises existantes, Ussoliye-Sibirski Silikon et Ussoliye Khimprom, situées dans la ville d'Oussolié-Sibirskoïé, dans la région d'Irkoutsk (Sibérie). La première tranche de production de polysilicium, d'une capacité annuelle de 300 tonnes a été lancée, en régime de test, en décembre dernier. Le démarrage de la ligne principale de production, d'une capacité annuelle de 3.500 tonnes, est prévu pour la fin de l'année 2009. Quant au démarrage de la fabrication de monosilane, il se fera par étapes, la production devant atteindre au final 200 tonnes par an. Rosnano va investir 7,5 milliards de roubles [3] dans ce projet.
Le silicium polycristallin est le principal matériau semi-conducteur utilisé dans la microélectronique et l'électrotechnique modernes, dans l'énergie solaire et la micromécanique. Le polysilicium est à la base de près de 90% des éléments solaires installés dans le monde. Le rythme de croissance annuel mondial de l'énergie solaire est supérieur à 30%. Quant au monosilane, il est largement utilisé dans la microélectronique et trouve de plus en plus d'applications dans le photovoltaïque pour la production de cellules solaires à couches minces. Nitol [4] est le seul producteur russe de trichlorosilane, matière première essentielle à la fabrication du polysilicium.
